第50章 光刻機事件(第1/2 頁)

“根據可靠訊息，星條旗國正在向何蘭政府施壓，要求半導體制造商ASML公司禁止對龍國出口光刻機出口。 ASML主導的光刻機是生產全球大量晶片所需的主流技術。 其從最先進的EUV擴充套件至相對成熟的DUV，星條旗國的做法試圖透過卡晶片製造的“喉嚨”遏制龍國崛起的步伐。 星條旗國也曾試圖對倭寇國施壓要求其停止向龍國晶片製造商運送同樣的技術。 這些都是對龍國的不公對待。 龍國衛視將持續進行報道。” 訊息一出，龍國人民反應熱烈，紛紛所求加快發展光刻機，以免再有他人威脅。 以星條旗國為首等國家駐龍國大使館門前都是龍國抗議的人群。 此時龍國中科院內部十分壓抑。 過往的科研人員都沒有了以往的神采，只是匆匆走過。 龍國中科院院長辦公室中，幾位主要負責龍國光刻機突破的教授滿臉愁容。 按照正常的研究程序，光刻機相關技術已經取得了巨大的進步，但是現在以星條旗國為首的相關國家，對必要的技術進行封鎖，使得現在的研究成果功虧一簣。 此時的龍國中科院院長廖啟發正一言不發的抽著煙。 此時他的壓力可想而知。 “宿主請注意，現在釋出重要任務請根據0.1奈米光刻機制造圖紙，幫助龍國突破當前困局，任務獎勵：極速磁懸浮技術。是否接受任務。” “接受任務！” …… 廖啟發抽著煙問道“你們現在研究到什麼地步？還有什麼難點嗎？” “廖院長，我們現在面臨的難點很多，光刻機這是一種集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟體、影象識別領域頂尖技術的產物。 我們在很多領域的研究還不夠深入，就單憑我們幾個真的是太難了。 目前來講世界主流的光刻機的基本結構最關鍵的部件只有三個：光源發射器、用來調整光路和聚焦的光學鏡頭，以及放置矽晶圓的曝光臺。 第一個是光源，必須採用一種特殊的光源，也就是極紫外光，它的波長只有13.5奈米，是可見光波長的幾十分之一。 但是，極紫外光源很難製造。 我們中科院其實研究這個光源已經有一段時間了，一直無法突破。 第二個是光學鏡頭，高度精密的光學鏡頭是光刻機的核心部件之一，目前何蘭、倭國、泡菜國，都是生產光學鏡頭的佼佼者。 在這方面我們差距實在太大，一直都是依靠進口的，但是現在以星條旗國為首的幾個國家從中作梗，我們的研究已陷入停滯。 我舉個例子，比如：何蘭的ASML自己不生產鏡頭，但是德意志的卡爾蔡司會專門為他們提供鏡頭。 這種鏡頭有多精密呢？如果把鏡頭放大到一個地球那麼大，它上面只允許有一根頭髮絲那樣的凸起。 第三個是對準，我們現在所要研製的晶片不是一次曝光就可以完成的，而是必須更換不同的掩膜，進行多次曝光。 晶片的每個元器件之間只允許有幾奈米的間隔。 這就意味著，掩膜和矽晶圓每次對準的誤差，也必須控制在奈米級別。曝光完一個區域之後，放置矽晶圓的曝光臺必須快速移動，接著曝光下一個區域。 要在快速移動中實現奈米級的對準，這個難度就相當於，你要從眨眼之間，端著一盤菜從北平故宮衝到魔都外灘，同時還要恰好踩到預定的腳印上，並且菜還保持端平不能灑。 這些都是我們所要繼續解決的問題，當然還有後續的一些技術但是相對於以上三個來說，都是可以解決的。 簡單地講我們可以把光刻機看作一臺高精度的底片曝光洗印機，它負責把“底片”，也就是設計好的晶片電路圖曝光到“相片紙”上。 這個“底片”有一個專業名稱，叫做“掩膜”。 而這裡的“相片紙”，就是製造晶片的基底材料矽晶圓；曝光完成後得到的最終“照片”，就是晶片。”龍國中科院光刻機專案領軍人物耀長青說道。 “我說老耀，你跟我揚揚灑灑說了那麼多，都沒說到點子上面。 一句話，在目前技術被封鎖的情況下，能不能突破，或者